18:40 | Trujillo, set. 27 (ANDINA).
Ante la alarma hecha por el decano del colegio de arquitectos en La Libertad asegurando que en el histórico monumento a la libertad, ubicado en la Plaza de Armas de Trujillo, han aparecido una manchas oscuras que serían hongos, representantes del Instituto Nacional de Cultura (INC) descartaron esa versión.
Carlos del Mar Pacheco, integrante del área de restauración del INC y supervisor de las obras durante los meses de ejecución, quien también argumentó que dichas manchas aparecidas en la parte inferior del monumento que culminó su restauración hace un 1 mes y 2 semanas, son producto de la expulsión de sales que generan daños al mármol travertino.
“Todo el proceso de limpieza con material químico fue hecho no para el retirado de hongos, sino para la expulsión de las sales que se encuentran al interior del monumento. Es por ello que recién comienza a verse el afloramiento de estas sustancias que aparecen como manchas y que sí generan daños al mármol”, señaló.
“No obstante, estas al salir ya no lo deteriorarán. Además, al estabilizarse dichas áreas las manchas van a desaparecer ya que es en donde el proceso químico está reaccionando”, agregó.
Refirió que, actualmente, el clima por la humedad no ayuda al proceso, sin embargo, dijo que los meses de verano serán favorables permitiendo que el monumento recupere su color normal.
En relación a los trabajos posteriores a la restauración, señaló que la empresa que ejecutó la obra dejó un manual de conservación el cual debe ser aplicado en los próximos años para mantener en buenas condiciones al monumento que fue refaccionado después de 80 años.
Precisó que la obra demando a la comuna local un inversión de un millón 28 mil nuevos soles con lo cual también se instalaron 4 piletas y un moderno sistema de iluminación.
El monumento a la libertad, elaborado por el escultor alemán Edmundo Moeller, fue inaugurado el 9 de diciembre del año 1927 y algunas versiones señalan que en un principio fue preparado para unas olimpiadas regionales en
Alemania.
(FIN) OPC/MRS
Publicado: 27/9/2009