06:58 | Chiclayo, ene. 10.
La Unidad Ejecutora N° 005 Naylamp-Lambayeque inició la primera etapa del proyecto Puesta en valor del complejo arqueológico Saltur, ubicado en el distrito de Zaña, provincia de Chiclayo, que comprende la instalación de un espacio cultural con zonas de exposición y áreas verdes.
Ayer se inició la ejecución de este proyecto en el marco de una simbólica ceremonia de inicio de obra, que desarrollará el componente de instalación de infraestructura que permitirá exponer los resultados de la investigación arqueológica de Saltur.
El director de la Unidad Ejecutora Naylamp-Lambayeque, Alfredo Narváez Vargas, afirmó que la primera intervención se ejecutará en un área de 432.18 metros cuadrados entre las intersecciones de la avenida Pomalca y 24 de Junio, con un costo total de 285,785 soles, por modalidad contrata a cargo de la empresa Vielso Contratistas Generales, en un plazo de ejecución de 45 días calendario.
“La obra va a permitir mostrar la historia de este territorio, revalorar a
Saltur como uno de los puntos más importantes de las tradiciones culturales y de la
arqueología de esta zona, además de involucrar en este espacio a nuestras autoridades locales de Zaña y Saltur para fortalecer desde esta alianza a la escuela local, porque este espacio se tiene que transformar en un aula”, expresó el director Narváez.
Sostuvo, asimismo, la importancia del proyecto Saltur porque se articula con lo que se desarrolla en el ámbito del valle, “el conocido proyecto de Huaca Rajada–Sipán, “donde vamos a seguir trabajando impulsando el desarrollo de este sitio articulando con Copesco y la municipalidad de Zaña para poner en valor toda esta parte del valle”, apuntó.
En el 2013 la Unidad Ejecutora 005 Naylamp Lambayeque del Ministerio de Cultura inició el proyecto de inversión pública “Puesta en valor del complejo arqueológico Saltur de la localidad de Zaña”-código N° 2158492, bajo la dirección del arqueólogo Luis Chero Zurita, en el marco del programa de investigaciones del Museo de Sitio Huaca Rajada Sipán.
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(FIN) SDC/MAO
Publicado: 10/1/2020